年产1000吨三氟化氮项⽬(特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Azot Triflorür），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体,具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体,在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料,并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

Nitrojen triflorür, kimyasal formül NF3, güçlü bir oksitleyici maddedir. Önemli bir endüstriyel özel gaz olarak geniş bir uygulama alanına sahiptir.
Mikroelektronik endüstrisinde nitrojen triflorür mükemmel bir plazma aşındırma gazıdır; Yarı iletken çip, düz panel ekran, optik fiber, fotovoltaik hücreler ve diğer üretim alanlarında nitrojen triflorür esas olarak plazma aşındırma gazı ve reaksiyon boşluğu temizleme maddesi olarak kullanılır.
Aynı zamanda, yüksek enerjili kimyasal lazerlerde, hidrojen ile reaksiyona girerek bir anda büyük miktarda ısı yayarak uygulamasını sağlamak için de kullanılabilir. Azot triflorür aynı zamanda yüksek enerjili bir yakıt olarak ve roket fırlatmalarında oksitleyici ve itici gaz olarak da kullanılır.